半导体检测设备
TGV 蚀刻后 AOI 检测设备:Zeus HS3000
Zeus HS3000能够在 23℃±0.2℃ 的超稳定环境控制下,实现对通孔三维形貌与缺陷的纳米级精度测量。系统通过三面同步成像技术,可捕获通孔顶部、底部及侧壁的完整信息,确保对复杂三维结构的无死角表征。

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  • 待测物:TGV 蚀刻后玻璃基板,兼容板级 @510mm*515mm、晶圆级 @6"、8"、12"
  • 来料厚度:0.1-1.5mm
  • 检测项目
  • 1)孔缺陷:漏孔、孔不通、孔内异物

    2)孔测量:表面孔直径 / 真圆度、腰孔直径 / 真圆度、孔位置度、上下表面孔同心度

    3)板面缺陷:划痕、脏污、裂纹、蚀刻凹坑等

  • 核心算法:内置自研核心 AI 算法,实现孔缺陷、板面缺陷的智能分类与精准判定,准确率≥99%
  • 产能:20UPH
  • 技术方案:BF/DF 双成像通道
  • 产品优势
  • 1)自动全检:可对蚀刻基板的正面、反面、腰孔全检 & 结果 Mapping,大幅降低操作门槛,提升生产效率

    2)通孔修复:可实现与激光修复设备联机数据互通,将缺陷通孔的数据坐标反馈至激光修复设备进行通孔悬切修复

    • 超稳定环境控制系统:设备腔体温度控制在 23℃±0.2℃,有效抑制热漂移对纳米级测量的影响
    • 高精度位置测量:通孔位置度检测精度 <1μm,确保通孔阵列与设计版图的高度吻合,为多层堆叠奠定对准基础。
    • 丰富的通孔量测算法
    • 数据互通可实现跨工艺的优化
    • AF自动对焦及纳米级精密运动

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