半导体检测设备
TGV纳米级3D X射线检测系统:Zeus HS4000
Zeus HS4000纳米级 3D X 射线检测系统采用非接触、无损伤的 3D CT 成像技术,以 500nm@160kV 的 3D 空间分辨率,穿透 TGV 基板的多层结构,精准捕获微米级内部缺陷,为先进封装制造提供从工艺研发到量产检测的全流程质量保障。

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  • 待测物:3D 空间分辨率:500nm@160kV
  • 检测能力:PVD 后:
  • 1)镀铜连续性检测;
  • 2)填铜后:气泡、断裂、裂纹检测;
  • 键合后:填铜气泡 / 断裂、铜浆不足 / 扩散、键合对齐度检测
  • 检测效率:23s/CT FOV,EFEM 自动上下料
  • 样品适配:最大样品尺寸:620mmx620mm
  • 硬件配置
  • 1)射线源:160kV 开管
    2)探测器:平板探测器 (50um 像素,4608x2930 矩阵)
    3)扫描锥角:35°~60°
    4)放大倍数:5~50 倍
    5)上下料:EFEM 自动完成
  • 设备形态:圆周 CL 扫描成像、背景与空气校正、几何校正、图像重建、3D 可视化 (MPR 视图 / 体素显示)
  • 环境要求:
  • 1)供电:三相 220V50Hz,功率 7kW
    2)供气:0.4~0.6MPa 压缩空气 (按需使用)
    • PVD(种子层沉积)→填铜→键合:全流程检测,内部质量透视
    • 160kV 高穿透力开管射线源
    • 500nm 空间分辨率
    • 23秒/CT FOV 高速采集

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