半导体检测设备
TGV RDL线路AOI检测设备:Zeus HS5000
Zeus HS5000采用穹顶光均匀照明与荧光光致发光成像技术,实现对多层RDL结构中每一层铜线路的精准检测,有效屏蔽下层线路的光学干扰。系统可同时兼容 PR、PSPI、ABF、BCB 等多种透明介质材料,通过多光谱融合与AI算法,清晰呈现2*2μm L/S精细线路的真实形貌。

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  • 待测物:TGV RDL后玻璃基板/PLP封装基板,兼容板级@510mm*515mm、晶圆级@6"、8"、12"
  • 检测能力:短路(桥接)、断路、异物、凹坑/凸起、划伤、残膜、漏铜、线宽&线距异常等缺陷
  • AI算法:内置高精度AI自动缺陷分类(ADC),准确率≥99%,大幅降低人工复检成本,为先进封装提供极致精密的质量把控
  • 检测精度:支持2*2μm L/S 基板制程
  • 产能:20UPH
  • 产品优势:线路修复:自动无缝连接线路修复设备,可对RDL断路/短路缺陷进行修复
  • 技术方案:
1)多模态混合照明成像系统、AI自动缺陷分类(ADC)
2)具备多层透明介质层成像干扰抑制功能,杜绝下层成像干扰


















  • 透明介质兼容性:全面覆盖 PR、PSPI、ABF、BCB 等主流RDL介质材料,针对不同材料的光学特性自动优化成像参数。
  • 超精细线路检测:支持2*2μm L/S 精细基板制程,满足Chiplet、HBM等下一代封装需求。
  • 穹顶光均匀照明系统
  • 荧光光致发光(PL)成像技术

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